SUSS  LABSPIN 8TT臺(tái)式旋涂顯影設(shè)備 一體式

公司簡介：

    SUSS MicroTec SE 是 1949 年創(chuàng)立、總部位于德國加興的上市精密設(shè)備企業(yè)，擁有 70 余年微加工設(shè)備研發(fā)制造經(jīng)驗(yàn)。產(chǎn)品分為先進(jìn)封裝、光掩模處理兩大體系，覆蓋晶圓鍵合、曝光、涂顯、掩模清洗全流程工藝設(shè)備。設(shè)備廣泛用于算力芯片封裝、功率器件、傳感器、光電子元器件量產(chǎn)，同時(shí)服務(wù)高校與科研院所微納加工研發(fā)。

產(chǎn)品介紹：

一 SUSS  LABSPIN 8TT臺(tái)式旋涂顯影一體機(jī)

技術(shù)參數(shù)：

轉(zhuǎn)速范圍50 - 8,000 rpm （使用200mm卡盤時(shí)精度為 ±1 rpm）

最大加速度最高 4,000 rpm/s （可編程調(diào)節(jié)）

工藝配方最多可存儲(chǔ) 200 個(gè)配方，每個(gè)配方支持 40 個(gè)步驟

單步時(shí)間1 - 999 秒，可編程設(shè)定

控制系統(tǒng)彩色觸摸屏圖形界面

電機(jī)類型無刷EC電機(jī)，空心軸設(shè)計(jì)，集成透明液體分離器

產(chǎn)品功能特點(diǎn)：

旋涂與顯影一體化：不僅用于標(biāo)準(zhǔn)旋涂，還可配置為浸潤式顯影平臺(tái)，支持顯影液點(diǎn)膠、去離子水沖洗和氮?dú)飧稍铮瓿赏暾墓饪坦に嚵鞒獭?/p>

靈活的模塊化選配：提供從手動(dòng)注射器到全自動(dòng)的點(diǎn)膠系統(tǒng)，并可選配邊緣珠去除（EBR） 和邊緣涂膠功能，滿足不同工藝需求。

工藝腔體設(shè)計(jì)：配備可拆卸的工藝碗和防溢流腔體，便于快速清潔和更換化學(xué)品，避免交叉污染。

安全與便捷：內(nèi)置文丘里真空發(fā)生器，無需額外真空泵即可吸附基板。同時(shí)具備數(shù)字真空表、開蓋聯(lián)鎖等安全功能

應(yīng)用場景：

半導(dǎo)體光刻工藝：用于6英寸及以下晶圓的正負(fù)性光刻膠均勻涂覆，是邏輯芯片、功率半導(dǎo)體等工藝研發(fā)的核心設(shè)備。

MEMS與微納器件：在MEMS傳感器、微流控芯片等制造中，用于制備絕緣膜、鈍化膜等功能薄膜。

新材料與聚合物研究：適用于SU-8、PMMA等厚膠或特殊聚合物的工藝開發(fā)和薄膜沉積。

光電與化合物半導(dǎo)體：用于LED、激光芯片等器件的增透膜、保護(hù)膠涂覆

型號(hào)列表：

SUSS  LABSPIN 8

SUSS  LABSPIN 8TT

SUSS  LABSPIN 6

SUSS  LABSPIN HP8

SUSS  LABSPIN HP8TT

SUSS  LABSPIN CP8

SUSS  LABSPIN VP8

SUSS  LABSPIN RCD8

SUSS  LABSPIN MCS8

SUSS  LABSPIN ECD8

SUSS  DSM8 Gen2

SUSS  DSM200 Gen2 

SUSS  MJB4 

SUSS  NIL-SFT8

SUSS  NIL-SFT12 

SUSS  MABA 6/8 Gen4

SUSS  MA12 Gen3 

SUSS  MA100 / 150e Gen2  

SUSS  MA200 Gen3

SUSS  MA300 Gen3 

SUSS  DSC300 Gen3 

SUSS  XB8 

SUSS  LABSPIN 8TT臺(tái)式旋涂顯影設(shè)備 一體式