SUSS  LABSPIN 8TT臺式旋涂顯影設備 一體式

公司簡介：

    SUSS MicroTec SE 是 1949 年創立、總部位于德國加興的上市精密設備企業，擁有 70 余年微加工設備研發制造經驗。產品分為先進封裝、光掩模處理兩大體系，覆蓋晶圓鍵合、曝光、涂顯、掩模清洗全流程工藝設備。設備廣泛用于算力芯片封裝、功率器件、傳感器、光電子元器件量產，同時服務高校與科研院所微納加工研發。

產品介紹：

一 SUSS  LABSPIN 8TT臺式旋涂顯影一體機

技術參數：

轉速范圍50 - 8,000 rpm （使用200mm卡盤時精度為 ±1 rpm）

最大加速度最高 4,000 rpm/s （可編程調節）

工藝配方最多可存儲 200 個配方，每個配方支持 40 個步驟

單步時間1 - 999 秒，可編程設定

控制系統彩色觸摸屏圖形界面

電機類型無刷EC電機，空心軸設計，集成透明液體分離器

產品功能特點：

旋涂與顯影一體化：不僅用于標準旋涂，還可配置為浸潤式顯影平臺，支持顯影液點膠、去離子水沖洗和氮氣干燥，完成完整的光刻工藝流程。

靈活的模塊化選配：提供從手動注射器到全自動的點膠系統，并可選配邊緣珠去除（EBR） 和邊緣涂膠功能，滿足不同工藝需求。

工藝腔體設計：配備可拆卸的工藝碗和防溢流腔體，便于快速清潔和更換化學品，避免交叉污染。

安全與便捷：內置文丘里真空發生器，無需額外真空泵即可吸附基板。同時具備數字真空表、開蓋聯鎖等安全功能

應用場景：

半導體光刻工藝：用于6英寸及以下晶圓的正負性光刻膠均勻涂覆，是邏輯芯片、功率半導體等工藝研發的核心設備。

MEMS與微納器件：在MEMS傳感器、微流控芯片等制造中，用于制備絕緣膜、鈍化膜等功能薄膜。

新材料與聚合物研究：適用于SU-8、PMMA等厚膠或特殊聚合物的工藝開發和薄膜沉積。

光電與化合物半導體：用于LED、激光芯片等器件的增透膜、保護膠涂覆

型號列表：

SUSS  LABSPIN 8

SUSS  LABSPIN 8TT

SUSS  LABSPIN 6

SUSS  LABSPIN HP8

SUSS  LABSPIN HP8TT

SUSS  LABSPIN CP8

SUSS  LABSPIN VP8

SUSS  LABSPIN RCD8

SUSS  LABSPIN MCS8

SUSS  LABSPIN ECD8

SUSS  DSM8 Gen2

SUSS  DSM200 Gen2 

SUSS  MJB4 

SUSS  NIL-SFT8

SUSS  NIL-SFT12 

SUSS  MABA 6/8 Gen4

SUSS  MA12 Gen3 

SUSS  MA100 / 150e Gen2  

SUSS  MA200 Gen3

SUSS  MA300 Gen3 

SUSS  DSC300 Gen3 

SUSS  XB8 

SUSS  LABSPIN 8TT臺式旋涂顯影設備 一體式